作业帮磁控溅射中的二次电子?磁控溅射是撞击Ar原子的是什么粒子?既然Ar离子撞击出的是中性靶材原子,那靶材上的二次电子是怎么产生的?Ar+离子最后又去了哪里?
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/05/02 12:45:00
磁控溅射中的二次电子?磁控溅射是撞击Ar原子的是什么粒子?既然Ar离子撞击出的是中性靶材原子,那靶材上的二次电子是怎么产生的?Ar+离子最后又去了哪里?
磁控溅射中的二次电子?
磁控溅射是撞击Ar原子的是什么粒子?既然Ar离子撞击出的是中性靶材原子,那靶材上的二次电子是怎么产生的?Ar+离子最后又去了哪里?
磁控溅射中的二次电子?磁控溅射是撞击Ar原子的是什么粒子?既然Ar离子撞击出的是中性靶材原子,那靶材上的二次电子是怎么产生的?Ar+离子最后又去了哪里?
磁控溅射中撞击Ar原子的是被电场加速的电子,公认的是碰撞理论,入射离子与固体表面原子发生弹性碰撞后,将其中一部分能量给了原子,该原子的动能超过它与其他原子形成的势垒（对金属约5--10ev)时,原子就会从晶格点阵碰出,形成离位原子,又与其他附近原子发生反复碰撞--联级碰撞.当原子动能超过结合能（1--6ev)时,原子离开表面进入真空室沉积在设置的基体上,形成薄膜.
入射正离子轰击固体表面后除产生原子外,还有其他现象产生,主要是原子和电子.原子沉积在基体上形成薄膜,电子用来维持辉光放电的继续.二次电子主要是氩原子被撞击后产生的,Ar+离子最后撞击靶材（靶材是阴极带负电）,失去能量,得到电子,还原为氩原子,所以在溅射纯金属时,氩流量确定以后,无论提高还是降低溅射功率,真空度基本不变,而在反应溅射时,反应气体过量时,提高溅射功率可以减轻真空度降低.
1.磁控溅射撞击氩原子的是什么粒子？
答：首先，溅射过程是建立在气体辉光放电基础上的。辉光放电的结果就是在真空室内产生大量的带电离子和电子。如果惰性气体是氩气的话，这其中大部分就是氩离子。
2.二次电子是怎么产生的？
答：我觉得二次电子并不是在靶材上，而是在真空室内到处存在的。二次电子在溅射的过程中产生的，当正离子轰击固体表面时会产生许多效应，任何粒子和离子之间的碰撞都有可...
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1.磁控溅射撞击氩原子的是什么粒子？
答：首先，溅射过程是建立在气体辉光放电基础上的。辉光放电的结果就是在真空室内产生大量的带电离子和电子。如果惰性气体是氩气的话，这其中大部分就是氩离子。
2.二次电子是怎么产生的？
答：我觉得二次电子并不是在靶材上，而是在真空室内到处存在的。二次电子在溅射的过程中产生的，当正离子轰击固体表面时会产生许多效应，任何粒子和离子之间的碰撞都有可能产生二次电子，可以说二次电子是由气体分子被碰撞产生的。
3.
3.Ar+离子最后又去了哪里？
答：Ar+离子轰击完靶材后，它就没有了能力，有可能就中和了部分靶材表面的电子，或者是独立的以离子状态在真空室内存在，总之溅射的过程是非常复杂，当离子失去了它生产的环境，就只能自己找自己的另一半，然后回到大气中来了，呵呵
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